応用化学科・専攻
理工学部助教 小澤寛晃 、教授 芳賀正明らの研究がイギリス化学会誌 Nanoscale の裏表紙を飾りました
2015年11月02日

理工学部応用化学科助教 小澤寛晃 、教授 芳賀正明らのレドックス活性ルテニウム錯体のナノ積層膜の電気化学キャパシタへの応用に関する論文が、イギリス化学会誌 Nanoscale(Impact Factor 7.33)の裏表紙を飾りました。
本研究は中央大学理工学部応用化学科とスイスのベルン大、フリーブル大との共同研究として助教 小澤が2013年夏休みにスイスで行った実験成果の一部です。
掲載論文:Nanoscale, 2015, 7, 17685-17692.
タイトル:Layer-by-layer grown scalable redox-activeruthenium-based molecular multilayer thin films for electrochemical applications and beyond
著 者:V. Kaliginedi, H. Ozawa, A. Kuzume, S. Maharajan, I. V.
Pobelov, N. H. Kwon, M. Mohos, P. Broekmann, K. M. Fromm, M. Haga, and T. Wandlowski
ご興味をお持ちの方は、以下のリンクをご覧ください。